三星顯示器公司與LG Display準(zhǔn)備在柔性O(shè)LED薄膜封裝過程中采用ALD(原子層沉積)技術(shù),兩家公司已經(jīng)與合作伙伴合作,在內(nèi)部采購并驗證ALD設(shè)備。如果采用ALD技術(shù),就可以更好保護(hù)有機(jī)材料,減少氧、水的影響,從而提高柔性O(shè)LED面板的壽命和性能。
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2016-9-26 09:46 上傳
據(jù)產(chǎn)業(yè)人士透露,三星顯示器和LG Display正準(zhǔn)備在柔性O(shè)LED生產(chǎn)流程中采用ALD技術(shù)。Jusung Engineering、WONIK IPS、AP System和TES擁有ALD技術(shù)和設(shè)備。LG Display已經(jīng)完成對ALD的研究,準(zhǔn)備將它用于柔性O(shè)LED生產(chǎn);三星顯示器也在加速部署ALD技術(shù)。
兩家公司完成了ALD技術(shù)的研發(fā),它們正在考慮實際引入ALD的可能性,因為它們正在向柔性O(shè)LED生產(chǎn)設(shè)施投資。企業(yè)的研發(fā)已經(jīng)完成,開始進(jìn)入商用階段。
OLED是有機(jī)材料,它存在缺陷,比如,OLED對水和氧的防護(hù)比較弱。為了保護(hù)OLED,制造商會在OLED之上鋪上許多層的薄膜,減少水和氧的侵蝕。具體鋪多少層?不同的制造商有不同的標(biāo)準(zhǔn),一般而言,制造企業(yè)會用一種名叫“Vitex”的方法在OLED之上鋪蓋有機(jī)薄膜和無機(jī)薄膜,交疊進(jìn)行,各自3-5層。
在無機(jī)薄膜封裝過程中,企業(yè)一般使用PECVD(等離子體增強(qiáng)化學(xué)汽相沉積)、濺射、ALD技術(shù);如果是有機(jī)薄膜沉淀,使用的是Kateeva的噴墨打印技術(shù)。為了生成無機(jī)薄膜,三星和LG采用PECVD技術(shù)。
為什么兩家企業(yè)現(xiàn)在才考慮用ALD技術(shù)替代PECVD?因為壽命和性能對于柔性O(shè)LED來說越來越重要。另外,柔性O(shè)LED屏幕的生產(chǎn)力下降,需求增長也是一個問題。
ALD技術(shù)是CVD(化學(xué)蒸汽沉積)技術(shù)的一種,它交替噴射原材料(包括ALD金屬和反應(yīng)氣體)從而形成原子薄膜層。MLD技術(shù)(分子層沉積)可以形成有機(jī)材料分子層,兩者結(jié)合就可以形成多層屏障,保護(hù)OLED,使之免受水和氧的侵蝕,即使在低溫下也可以形成。
在屏幕生產(chǎn)過程中引進(jìn)ALD技術(shù)有一些優(yōu)勢,例如,它可以減少雜質(zhì),形成厚度相同的薄膜。ALD技術(shù)可以涂上高質(zhì)量薄膜層,保護(hù)效果明顯增強(qiáng)。如果無機(jī)薄膜的厚度不同(只有幾納米的差別),層層疊加,總薄膜厚度、滲水率就會受到影響。除此之外,與現(xiàn)有的CVD方法相比,ALD技術(shù)還可以采用各種不同的薄膜,這也是它的一個優(yōu)勢。
半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)追求精細(xì)工藝,ALD成為它們追捧的對象。不過顯示屏產(chǎn)業(yè)一直對ALD保持猶豫態(tài)度,因為它的成本比PECVD高,大面積使用也存在一定的問題,沉積速度不夠快。最近一段時間問題已經(jīng)部分解決,正因如此ALD才會真正投入使用。
一名產(chǎn)業(yè)代表稱:“雖然ALD和PECVD不可同日而語,但是ALD的沉積速度比PECVD慢了大約10倍。因為沉積速度慢,生產(chǎn)效率也很低,大面積應(yīng)用有困難,這些都是主要的障礙,之所以真正引進(jìn)ALD技術(shù),主是是考慮到它可以形成更薄的高質(zhì)量薄膜。”
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